• 专利附录
  • 专利说明
  • 权利要求
  • 类似技术
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  • 引用文献
  • 法律状态
  • 优先权
    • 专利摘要:
    Dievorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtungzum Erzeugen und Aufrechterhalten einer vorgebbaren Gaszusammensetzung (4)in der Umgebung eines laufenden Bandmaterials (3) nach einer Tauchbehandlung,wobei das Bandmaterial (3) in einem gegenüber der Umgebungsatmosphäre dichten Gehäuse (10)senkrecht oder schrägnach oben aus einem in einem Behälter(1) angeordneten Tauchbad (2) herausgeführt wird und durch einen Schlitz(13) oben aus dem Gehäuse(10) austritt, wobei in das Gehäuse(10) durch mindestens eine Gaszuführeinrichtung (5, 20, 23; 24)Gas zugeführtwird, so dass sich in dem Gehäuse(10) die vorgebbare Gaszusammensetzung (4) einstellt, wobei dasGas in dem Gehäuse(10) durch mindestens eine Umwälzeinrichtung(6, 7, 8, 9) umgewälztwird und wobei im Bereich des Schlitzes (13) Sperrgasauslässe (18,19) vorgesehen sind, die Sperrgas so gleichmäßig verteilt und in solcherMenge im Bereich des Schlitzes (13) zuführen, dass im Wesentlichenkein Gas aus der Umgebungsatmosphäre (25) in das Gehäuse (10)eindringen kann. Besonders vorteilhaft ist eine Anwendung der Erfindungbei der Verzinkung von Stahlblechen, wenn nach der Beschichtung überschüssiges Beschichtungsmaterial(26) von der Oberfläche(27) abgeblasen wird. Das Abblasen kann wirtschaftlich mit Inertgasunter inerten Umgebungsbedingungen erfolgen, wodurch die Bildungvon Zinkoxid vermieden wird.
    公开号:DE102004021214A1
    申请号:DE200410021214
    申请日:2004-04-29
    公开日:2005-12-01
    发明作者:Fernand Heine
    申请人:Air Liquide GmbH；
    IPC主号:C25D5-48
    专利说明:
    [0001] Dievorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erzeugen und Aufrechterhalteneiner vorgebbaren Gaszusammensetzung in der Umgebung eines laufendenBandmaterials nach einer Tauchbehandlung sowie eine entsprechendeVorrichtung. Eine besonders typische Anwendung der Erfindung liegtz. B. im Bereich der galvanischen Beschichtung von Metallblechbändern, insbesondereder Verzinkung.
    [0002] Beider Beschichtung von Bandmaterialien in einem Tauchbad wird typischerweisedas Bandmaterial durch das Tauchbad geführt, beispielsweise über Umlenkrollen.Dabei verlässtdas Bandmaterial das Tauchbad nach oben, wobei eine längere Streckezur Abkühlungbzw. Verfestigung und Vergleichmäßigung derBeschichtung folgt. Am günstigstenist eine exakte Führungin senkrechter Richtung fürdiese Strecke, was durch eine weit oberhalb des Tauchbades angeordneteUmlenkrolle bewerkstelligt werden kann.
    [0003] Einesolche Anordnung wird beispielsweise auch bei der galvanischen Verzinkungvon Metallblechen, insbesondere Stahlblechen, verwendet, wobei überschüssiges Zinkmittels Pressluft abgeblasen wird, indem Pressluft in scharfem Strahlaus Düsen aufbeide Seiten der Bandoberflächegeblasen wird. ÄhnlicheAnordnungen gibt es auch bei anderen Beschichtungsanlagen. Die für solcheAbblaseinrichtungen verwendeten Pressluftmengen sind relativ hoch, weshalbbisher die Verwendung eines Inertgases für diesen Vorgang aus wirtschaftlichenGründenkaum in Betracht gezogen wurde. Tatsächlich ist es mit erheblichenNachteilen verbunden, wenn ein aus einem Tauchbad herausgeführtes Materialdirekt an die Umgebungsatmosphäregelangt, weil es dort typischerweise zu Oxidationsprozessen an derBandoberflächeoder bei dem von dieser wieder abgestreiften Mate rial kommt. Tatsächlich oxidiertbei einer Verzinkungsanlage praktisch das gesamte abgestreifte Zinkzu Zinkoxid, welches auf die Oberfläche des Tauchbades zurückfällt unddort periodisch entfernt werden muss. Dies bedeutet eine Verschlechterung undVerzögerungdes Produktionsablaufes sowie eine relativ große Verschwendung von Zink.So könnenbei einer typischen Verzinkungsanlage, die etwa 20.000 t verzinktesStahlblech im Monat produziert, etwa 90 t Zink durch Zinkoxidbildungverbraucht werden. Da jedoch das Abblasen der Oberfläche etwa mit5.000 m3 Luft pro Stunde erfolgt, wurde eine Inertisierung des gesamtenSystems durch Verwendung von beispielsweise Stickstoff zum Abblasenals nicht wirtschaftlich angesehen. Ähnliche Verhältnisse,wie hier beispielhaft anhand einer Verzinkungsanlage beschrieben,gelten fürandere Beschichtungseinrichtungen.
    [0004] Aufgabeder vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Verfahren anzugeben,mit dem in der Umgebung eines laufenden Bandmaterials nach einer Tauchbehandlungeine vorgegebene Gaszusammensetzung aufrechterhalten werden kann,insbesondere in Verbindung mit einer Einrichtung zum Abblasen derbeschichteten Oberflächen.Außerdemist es Aufgabe der Erfindung, eine entsprechende Vorrichtung zuschaffen.
    [0005] ZurLösungdieser Aufgabe dienen ein Verfahren nach dem Anspruch 1 und eineVorrichtung nach dem Anspruch 10. Vorteilhafte Ausgestaltungen,die einzeln oder in Kombination miteinander Anwendung finden können, sindin den jeweils abhängigenAnsprüchenangegeben.
    [0006] Einwesentlicher Gedanke der Erfindung liegt darin, dass die zum Abblasenoder Behandeln der Oberflächenverwendete Gasmenge grundsätzlichnicht verloren gehen muss, sondern bei Verwendung eines Gehäuses durcheine Umwälzanlageimmer wieder in das Gehäusezurückgeführt werden kann.Allerdings muss dieses Gehäusezumindest an seiner Oberseite einen relativ großen Schlitz für die Durchführung desBandmaterials aufweisen, was die Einstellung einer gewünschtenGaszusammensetzung in dem Gehäuseerschwert. Dieser Schlitz muss eine Länge haben, die mindestens derBreite der zu beschichtenden Materialbahn entspricht und braucht andererseitsauch eine gewisse Breite, da die Materialbahn nicht exakt auf einerbestimmten Linie geführtwerden kann, sondern beispielsweise schwingen oder flattern kann.Durch diesen Schlitz würde ohneerfindungsgemäße ZusatzmaßnahmenSauerstoff aus der Umgebungsatmosphäre in das Gehäuse eindringen,wodurch sich der gewünschteEffekt der Inertisierung nicht realisieren ließe. Hier schafft die vorliegendeErfindung Abhilfe, in dem einerseits das zum Abblasen nötige Gasmittels einer Umwälzeinrichtungimmer wieder verwendet werden kann, andererseits durch die Verwendungvon Sperrgas im Bereich des Schlitzes jedoch das Eindringen von Umgebungssauerstoffverhindert wird.
    [0007] Eshat sich herausgestellt, dass die umgewälzte Gasmenge sehr viel größer seinkann als die Menge, die als Sperrgas zur Verhinderung des Eindringensvon Umgebungssauerstoff benötigtwird, so dass die erfindungsgemäße Kombinationerhebliche wirtschaftliche Vorteile bringt. Die hier am Beispieleiner Verzinkungsanlage beschriebene Funktionsweise gilt in ähnlicherForm auch fürSysteme, bei denen großeGasmengen zur Kühlungoder zur anderweitigen Behandlung einer beschichteten Oberfläche eingesetztwerden. Entscheidend ist, dass trotz der Durchführung eines laufenden Bandmaterialsdurch ein gegenüberder Umgebungsatmosphäredichtes Gehäuseim wesentlichen genau eine gewünschte Gaszusammensetzungin dem Gehäuseeingestellt werden kann. Dies wird durch die Verwendung von Sperrgasan der notwendigerweise erforderlichen Öffnung am oberen Ende des Gehäuses erreicht,wobei das Sperrgas so gleichmäßig verteiltund in solcher Menge im Bereich des Schlitzes zugeführt wird, dassim wesentlichen kein Gas aus der Umgebungsatmosphäre in dasGehäuseeindringen kann. Dies führtnatürlichdazu, dass immer etwas Gas aus dem Gehäuse an die Umge bungsatmosphäre verloren geht,so dass ständigneues Gas durch mindestens eine Gaszuführeinrichtung zugeführt werdenmuss. Diese Gaszuführeinrichtungkann entweder separat irgendwo an dem Gehäuse- angeordnet sein oder aberallein durch die Sperrgaszuführungverwirklicht werden. Es gibt daher zwei Arten von Strömung in demGehäuse,nämlicheine schwache Strömung voninnen durch den Schlitz an die Umgebungsatmosphäre und eine starke durch dieUmwälzeinrichtung hervorgerufeneStrömung,die insbesondere zum Abblasen der Oberfläche des Bandmaterials verwendet werdenkann.
    [0008] Diegenaue Zusammensetzung der Gasatmosphäre in dem Gehäuse kannsomit praktisch unabhängigvon der Umgebungsatmosphäregewählt werden.Im einfachsten Fall wird die Atmosphäre im Gehäuse aus Stickstoff bestehen,da dieses Inertgas am wirtschaftlichsten verfügbar gemacht werden kann. DieZuführungder durch den Schlitz verlorengehenden Stickstoffmenge kann auseinem typischen Tank mit flüssigemStickstoff oder auch aus einer vor Ort befindlichen Membrantrennanlageerfolgen.
    [0009] Grundsätzlich bietetdie vorliegende Erfindung auch die Möglichkeit, statt einer inertenGaszusammensetzung in dem Gehäuseeine Gasmischung mit bestimmten gewünschten Eigenschaften herzustellen.Beispielsweise durch die Beimischung geringer Mengen von Wasserstoffkann eine reduzierende Atmosphäreerzielt werden, die eine Oxidation verhindert. Die Beimischung vonBehandlungsgasen kann durch eine ohnehin vorhandene Gaszuführung erfolgenoder durch eine gesonderte weitere Gaszuführung. Die Versorgung mit relativgeringen Mengen an Behandlungsgas erfolgt typischerweise aus Druckflaschen,Flaschenbündelnoder anderen Druckbehältern.
    [0010] Für Wartungsarbeitenund einen besonders einfachen Aufbau des Gehäuses ist es vorteilhaft, wenndieses an seinem unteren Ende offen ist und um das Bandmate rialherum in das Tauchbad eingetaucht wird. In eingetauchtem Zustandkann auch an diesem Ende keine Umgebungsatmosphäre eindringen und es können aufder Oberflächedes Tauchbades schwimmende Verunreinigungen nicht in den Bereichgelangen, in dem das Bandmaterial aus dem Tauchbad austritt.
    [0011] Daserfindungsgemäße Verfahren,welches seine Hauptanwendung bei der galvanischen Verzinkung vonMetallblechbändernhat, lässtsich auch auf andere galvanische Beschichtungsverfahren sowie aufVerfahren zur Beschichtung mit Kunststoff in einem Tauchbad anwenden.Besonders wirtschaftlich ist das Verfahren dann, wenn die umgewälzte Gasmengewesentlich größer alsdie Verlustgasmenge ist. Die zugehörige Vorrichtung, die im Anspruch10 und den davon abhängigenAnsprüchenbeschrieben ist, wird im folgenden anhand eines Ausführungsbeispielsin der Zeichnung näherbeschrieben. Die Zeichnung zeigt teilweise schematisch in einerSeitenansicht eine galvanische Verzinkungsanlage mit einer erfindungsgemäßen Vorrichtung.
    [0012] DieZeichnung zeigt einen Behälter 1,in dem sich ein Tauchbad 2, insbesondere ein Galvanisierungsbadzur Verzinkung, befindet. Ein Bandmaterial 3, welches z.B. überUmlenkrollen geführtwird, taucht zunächstin das Tauchbad 2 ein und wird nach oben aus diesem wiederherausgeführt,vorzugsweise senkrecht. Es durchläuft das Innere eines Gehäuses 10,in dem sich eine vorgebbare Gasmischung 4 befindet. Dasuntere Ende 11 des Gehäuses 10 istoffen und taucht in der Umgebung des Bandmaterials 3 indas Tauchbad 2 ein, so dass das Gehäuse 10 dort gegendie Umgebungsatmosphäre 25 abgedichtetist. Am oberen Ende 12 weist das Gehäuse 10 einen Schlitz 13 auf,durch den das Bandmaterial 3 das Gehäuse 10 wieder verlässt. Ansonstenist das Gehäuse 10 überall gegenüber derUmgebungsatmosphäre 25 abgedichtet.Beim Verlassen des Tauchbades 2 weist das Bandmaterial 3 anseiner Oberfläche 27 eineBeschichtung 26 auf, die in mehr Beschichtungsmaterialenthalten kann als erwünschtist. Dieser Überschusswird durch Abblasen beseitigt, was mittels Gaseinlassdüsen 9 aufbeiden Seiten des Bandmaterials 3 erfolgt. Es kann sichentweder um eine Vielzahl von dicht nebeneinander angeordneten Düsen oderum Flachdüsenhandeln. Jedenfalls wird durch diese Gaseinlassdüsen 9 ein scharferGasstrahl auf die Bandoberfläche 27 gerichtet,durch den überschüssiges Beschichtungsmaterial 26 abgeblasenwird, wodurch es zurückin das Tauchbad 2 tropft. Erfindungsgemäß wird die zum Abblasen nötige Gasmengenicht jeweils neu zugeführt,sondern an mindestens einer Absaugöffnung 6 aus dem Gehäuse 10 abgesaugtund mittels einer Pumpe 7 durch eine Umwälzleitung 8 wiederzu den Gaseinlassdüsen 9 zurückgeführt. DieserKreislauf verbraucht selbst kein Gas, sondern kann mit einer fastbeliebigen Durchsatzmenge betrieben werden, ohne dass dies den Gasverbrauchverändert.
    [0013] Ohneweitere Zusatzeinrichtungen würdejedoch durch den Schlitz 13 ein Gasaustausch zwischen demInneren des Gehäuses 10 undder Umgebungsatmosphäre 25 stattfinden.Zur Aufrechterhaltung einer gewünschten,insbesondere inerten, Gaszusammensetzung 4 in dem Gehäuse 10 wirddaher zunächstin dem Gehäuse 10 eingeringer Überdruck erzeugt,in dem ständigGas mit der gewünschtenZusammensetzung übereine Gaszuführung 5 zugeführt wird.Der geringe Überdruckin dem Gehäuse 10 istauch an dem etwas niedriger liegenden Spiegel des Tauchbades 2 imInneren des Gehäuses 10 veranschaulicht.Trotz eines solchen Überdruckesim Gehäuse 10 würde einSchlitz 13 mit den fürdie Durchführungvon Bandmaterial 3 nötigenDimensionen immer einen Gasaustausch mit der Umgebungsatmosphäre 25 bewirken,so dass der Sauerstoffgehalt im Gehäuse ungleichmäßig undunerwünscht hochwerden könnte.Aus diesem Grunde wird im Bereich des Schlitzes 13 dieZuführungvon Sperrgas vorgesehen. Übereine Sperrgasleitung 15 wird Sperrgas, im typischen Fallewiederum Stickstoff, jeweils mindestens einer Sperrgasverteilung 16 bzw. 17 aufbeiden Seiten des Schlitzes 13 zugeführt. Diese Sperrgasverteilungen 16, 17 weisenSperrgasauslässe 18 bzw. 19 auf,die Sperrgas sehr gleichmäßig im Bereichdes Schlitzes 13 austreten las sen. Die gleichmäßige Verteilungdes Sperrgases kann beispielsweise durch eine Vielzahl von Löchern, Schlitzenoder anders geformten Öffnungenerfolgen. Besonders bevorzugt ist es, dass Sperrgas durch poröse Wände, insbesondereaus Sintermaterial, austreten zu lassen, wodurch eine sehr gleichmäßige Verteilungerfolgt. Geeignet sind insbesondere Sintermetallplatten oder Rohre,deren Wändezumindest teilweise aus Sintermaterial bestehen. Das aus den Sperrgasauslässen 18, 19 austretendeGas strömt teilweisein das Innere des Gehäuses 10 undteilweise durch den Schlitz 13 nach außen, wobei diese Strömung sogleichmäßig ist,dass praktisch keine Gegenströmungnach innen zugelassen wird. Auch eine Diffusion von Sauerstoff ausder Umgebungsatmosphäre 25 indas Innere des Gehäuses 10 findet beigenügenderStrömungsgeschwindigkeitdes Sperrgases nicht statt.
    [0014] Diegenaue Menge des Sperrgases kann durch ein Sperrgasventil 21 eingestelltwerden. Sofern die Zufuhr von Sperrgas allein nicht ausreicht die gewünschte Gaszusammensetzung 4 imGehäuse 10 zuerreichen, kann zusätzlich über einZuführventil 20 weiteresGas überdie Gaszuführung 5 eingeleitet werden.Im allgemeinen werden die Sperrgasleitung 15 und die Gaszuführung 5 miteinem Inertgasspeicher 23 in Verbindung stehen. Sofernkeine reine Inertgasatmosphärein dem Gehäuse 10 gewünscht wird,sondern eine andere Gaszusammensetzung 4, so kann zusätzlich einBehandlungsgasspeicher 24 vorgesehen werden, von dem über einBehandlungsgasventil 22 Behandlungsgas, insbesondere Wasserstoff,in das Gehäuse 10 geleitetwerden kann. Dies kann entweder übereine weitere Gaszuführung 14 oder – wie gestricheltangedeutet – bevorzugt ebenfalls über dieGaszuführung 5,insbesondere unter Verwendung eines Mischers, erfolgen.
    [0015] DieErfindung eignet sich füralle Tauchbeschichtungsverfahren, bei denen ein Bandmaterial nachoben aus einem Tauchbad herausgeführt und über eine längere Strecke in einer vorgegebenen Gaszusammensetzunggehalten werden soll. Be sonders wirtschaftlich ist das Verfahren,wenn eine Behandlung der Oberflächedes Bandmaterials mit großenGasmengen erfolgt, z., B. beim Abblasen von überschüssigem Zink einer Verzinkungsanlage,wobei möglichstwenig Sauerstoff mit dem Beschichtungsmaterial in Berührung kommensoll.
    1 Behälter 2 Tauchbad 3 Bandmaterial 4 Gaszusammensetzung 5 Gaszuführung 6 Absaugöffnung 7 Pumpe 8 Umwälzleitung 9 Gaseinlassdüse(n) 10 Gehäuse 11 unteres(offenes) Ende 12 oberesEnde 13 Schlitz 14 weitereGaszuführung 15 Sperrgasleitung 16 Sperrgasverteilung 17 Sperrgasverteilung 18 Sperrgasauslässe 19 Sperrgasauslässe 20 Zuführventil 21 Sperrgasventil 22 Behandlungsgasventil 23 Inertgasspeicher 24 Behandlungsgasspeicher 25 Umgebungsatmosphäre 26 Beschichtungsmaterial 27 Oberfläche desBandmaterials
    权利要求:
    Claims (20)
    [1] Verfahren zum Erzeugen und Aufrechterhalten einervorgebbaren Gaszusammensetzung (4) in der Umgebung eineslaufenden Bandmaterials (3) nach einer Tauchbehandlung,wobei das Bandmaterial (3) in einem gegenüber derUmgebungsatmosphäre dichtenGehäuse(10) senkrecht oder schräg nach oben aus einem in einemBehälter(1) angeordneten Tauchbad (2) herausgeführt wirdund durch einen Schlitz (13) oben aus dem Gehäuse (10)austritt, wobei in das Gehäuse(10) durch mindestens eine Gaszuführeinrichtung (5, 20, 23; 24)Gas zugeführtwird, so dass sich in dem Gehäuse(10) die vorgebbare Gaszusammensetzung (4) einstellt,wobei das Gas in dem Gehäuse(10) durch mindestens eine Umwälzeinrichtung (6, 7, 8, 9)umgewälztwird, und wobei im Bereich des Schlitzes (13) Sperrgasauslässe (18, 19) vorgesehensind, die Sperrgas so gleichmäßig verteiltund in solcher Menge im Bereich des Schlitzes (13) zuführen, dassim wesentlichen kein Gas aus der Umgebungsatmosphäre (25)in das Gehäuse (10)eindringen kann.
    [2] Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,das die Gaszusammensetzung (4) in dem Gehäuse (10)im wesentlichen inert ist, insbesondere im wesentlichen aus Stickstoffbesteht.
    [3] Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,dass das umgewälzteGas durch mindestens eine Gaseinlassdüse (9) auf das Bandmaterial(3) geblasen wird.
    [4] Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,dass das umgewälzteGas zum Abstreifen von überschüssigem Beschichtungsmaterial(26) auf der Oberfläche(27) des Bandmaterials (3) und/oder zur Vergleichmä ßigung derOberfläche(27) gegen das Bandmaterial (3) geblasen wird,vorzugsweise senkrecht oder schrägnach unten.
    [5] Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurchgekennzeichnet, dass die umgewälzteGasmenge pro Zeiteinheit größer alsdie zusätzlichzugeführteGasmenge ist, insbesondere 3 bis 10 mal so groß.
    [6] Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurchgekennzeichnet, dass das Gehäuse(10) separat von dem Behälter (1) des Tauchbades(2) gehaltert wird und mit einem unteren offenen Ende (11)um das Bandmaterial herum in das Tauchbad (2) eingetauchtwird, so dass auch an diesem offenen Ende (11) keine Umgebungsatmosphäre (25)eindringen kann.
    [7] Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurchgekennzeichnet, dass das Bandmaterial (3) aus Metall ist,vorzugsweise aus einer Eisenlegierung oder aus Stahl, und als Tauchbehandlungeine galvanische Beschichtung mit mindestens einem Metall, insbesondereZink, durchgeführt wird.
    [8] Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurchgekennzeichnet, dass das Bandmaterial (3) metallisch istund als Tauchbehandlung eine Kunststoffbeschichtung durchgeführt wird.
    [9] Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurchgekennzeichnet, dass durch Zusatz mindestens eines weiteren Behandlungsgases, insbesondereWasserstoff, gewünschtechemische Eigenschaften der Gaszusammensetzung (4) in dem Gehäuse hergestelltwerden, insbesondere eine reduzierende Atmosphäre.
    [10] Vorrichtung zum Erzeugen und Aufrechterhalten einervorgebbaren Gaszusammensetzung (4) in der Umgebung eineslaufenden Bandmaterials (3) nach einer Tauchbehandlung,mit einem in einem Behälter(1) angeordneten Tauchbad (2), aus dem das Bandmaterial(3) senkrecht oder schrägnach oben austreten kann, einem gegenüber der Umgebungsatmosphäre abgedichtetenGehäuse(10), von dem ein unteres offenes Ende (11) indas Tauchbad (2) eintauchbar ist und ein oberes Ende (12)einen Schlitz (13) zum Herausführen des Bandmaterials (3)aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass das Gehäuse (10) mindestenseine Gaszuführeinrichtung(5, 20, 23; 24) aufweist, sodass sich in dem Gehäuse(10) eine vorgebbare Gaszusammensetzung (4) einstellenlässt,wobei das Gehäuse(10) mindestens eine Umwälzeinrichtung (6, 7, 8, 9)zur Umwälzungdes darin befindlichen Gases aufweist, und wobei im Bereich desSchlitzes (13) Sperrgasauslässe (18, 19) vorgesehensind, die so gleichmäßig verteiltund so dimensioniert sind, dass daraus austretendes Sperrgas imwesentlichen das Eindringen von Gas aus der Umgebungsatmosphäre (25)durch den Schlitz (13) in das Gehäuse (10) verhindernkann.
    [11] Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,dass die Gaszuführeinrichtung(5, 20, 23) einen Inertgasspeicher (23)aufweist, vorzugsweise einen Stickstoffspeicher.
    [12] Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,das die Gaszuführeinrichtung(5, 20, 23) und/oder eine weitere Gaszuführeinrichtung(14) mit einem weiteren Speicher (24) für ein anderesBehandlungsgas, insbesondere Wasserstoff, verbunden ist.
    [13] Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet,dass die Umwälzeinrichtungmindestens eine Absaugöffnung(6), mindestens eine Umwälzleitung (8) miteiner Pumpe (7) und mindestens eine Gaseinlassdüse (9)aufweist.
    [14] Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet,dass mehrere Gaseinlassdüsen(9) vorhanden sind, die auf die Oberfläche (27) des Bandmaterials(3) gerichtet sind.
    [15] Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet,dass die Düsen(9) zum Abblasen von überschüssigem vonder Tauchbehandlung stammendem Beschichtungsmaterial (26)von der Oberfläche(27) des Bandmaterials (3) ausgebildet sind.
    [16] Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 15, dadurch gekennzeichnet,dass zur gleichmäßigen Zufuhrvon Sperrgas in den Bereich des Schlitzes (13) Sperrgasverteilungen(16, 17) vorgesehen sind, die mit Sperrgasauslässen (18, 19)in Verbindung stehen.
    [17] Vorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,dass die Sperrgasauslässe(18, 19) Löcherund/oder Öffnungensind, die gleichmäßig im Randbereichdes Schlitzes (13) angeordnet sind.
    [18] Vorrichtung nach Anspruch 16 oder 17, dadurch gekennzeichnet,dass die Sperrgasauslässe (18, 19)durch poröseRohre oder Platten, insbesondere aus Sintermaterial, gebildet sind.
    [19] Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 18, dadurch gekennzeichnet,dass das Tauchbad (2) ein galvanisches Metallisierungsbadist, vorzugsweise zur Verzinkung von Metallbändern (3).
    [20] Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 18, dadurch gekennzeichnet,dass das Tauchbad (2) eine Anlage zur Aufbringung einesKunststoffüberzuges,insbesondere auf ein Metallband, ist.
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    公开号 | 公开日
    DE102004021214B4|2007-11-22|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    法律状态:
    2005-12-01| OP8| Request for examination as to paragraph 44 patent law|
    2008-05-21| 8364| No opposition during term of opposition|
    2008-06-12| 8327| Change in the person/name/address of the patent owner|Owner name: AIR LIQUIDE DEUTSCHLAND GMBH, 40235 DUESSELDOR, DE |
    2019-11-01| R119| Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee|
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
    DE200410021214|DE102004021214B4|2004-04-29|2004-04-29|Verfahren und Vorrichtung zur Inertisierung der Umgebung eines laufenden Bandmaterials nach einer Tauchbehandlung|DE200410021214| DE102004021214B4|2004-04-29|2004-04-29|Verfahren und Vorrichtung zur Inertisierung der Umgebung eines laufenden Bandmaterials nach einer Tauchbehandlung|
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